TG-142 和 MPPG 8.b 中推薦的每個基于圖像的測試的單一供應(yīng)商解決方案。使用 EPID 和 RITG142 軟件，自信而輕松地對直線加速器進(jìn)行全面的質(zhì)量保證。

RITG142質(zhì)控軟件，TG142分析軟件是機器 QA、MLC QA、成像 QA 以及數(shù)據(jù)跟蹤和趨勢分析的一體化解決方案，您需要符合 TG-142 和醫(yī)學(xué)物理學(xué)實用指南 （MPPG） 8.b 的全面 LINAC QA。此外，成像 QA 模型通過易于使用的跟蹤和趨勢分析功能自動評分。

機器質(zhì)量保證

字段對齊

光束測量

輻射/光場重合

EPID圖像可以在沒有校準(zhǔn)文件的情況下進(jìn)行分析，并具有自定義的視場大小。中心位置可以通過采取

BB、針刺或使用 L-Rad Phantom。

 

全自動星形分析

非對稱場/匹配線

深度劑量、交叉和正交剖面

電子能 （TG-25）

圖像直方圖

等劑量輪廓

3D 劑量曲線

快速平整度和對稱性

水箱梁測量分析

導(dǎo)入斷層放療®校準(zhǔn)文件

斷層放療®是 Accuray， Inc. 的注冊商標(biāo)

MLC質(zhì)量保證

Varian LINAC

EPID糾察柵欄測試

此例程可自動執(zhí)行經(jīng)典的糾察柵欄測試。

自動化瓦里安 RapidArc®測試

可以在距離 EPID、膠片或 CR 圖像的任何距離處拍攝圖像。這包括：測試 0.1、0.2、1.1、1.2、2 和 3。 RIT 的 RapidArc QA 例程支持 Millennium 120、HD120 MLC 和 Halcyon®MLC 模型。

瓦里安葉速試驗

在不使用日志文件的情況下，該測試可測量瓦里安 MLC 葉片速度在成像儀上移動時的一致性和準(zhǔn)確性。

瓦里安·哈爾西恩®MLC分析

執(zhí)行糾察圍欄或全面的 RapidArc®Halcyon的分析®MLC

Elekta LINAC

 

漢考克對醫(yī)科達(dá)機器的測試

漢考克測試（2 圖像測試、4 圖像測試和帶備用鉗口測試）使用 Elekta iView™ 成像儀自動測量葉片位置與等中心位置以及顎葉片后退測量值。

EPID糾察柵欄測試

此例程可自動執(zhí)行經(jīng)典的糾察柵欄測試。

醫(yī)科達(dá)葉速測試

此測試對齊兩張圖像，以分析 Elekta iView™ 和 Agility™ 的葉速一致性。
 

其他 MLC 測試

Bayouth MLC分析

分析需要在銀行之間留葉間隙的 MLC。

其他 MLC 測試

其中包括：TG-50 糾察柵欄測試、MSK 葉片測試、瓦里安 DMLC 測試模式和 MLC 傳輸分析。

 

成像 QA

 

EPID QC模塊

RIT長子

（EPID QA Phantom - 由 Standard Imaging 制造和銷售。 這些測試包括：5 個區(qū)域的穩(wěn)定性、分辨率 （MTF）、幾何失真、均勻性、對比度和噪點。

PTW電子元

拉斯維加斯EPID

標(biāo)準(zhǔn)成像 QC-3

卡坦®、kV 和錐形梁模塊

瓦里安 504 CATPHAN

瓦里安 604 CATPHAN

醫(yī)科達(dá) 503 CATPHAN

西門子圖像質(zhì)量 Phantom

DR/CR kV模塊

IBA Primus（IBA普里姆斯酒店）®L

PTW 諾米®4

（20x20厘米和30x30厘米）

利茲 TOR-18 FG

標(biāo)準(zhǔn)成像 QC-kV1

kV/MV模塊

標(biāo)準(zhǔn)成像 ISOCube

五角星指南

基本模塊

DICOM圖像查看器

DICOM 標(biāo)簽查看器

圖像導(dǎo)入：DICOM 目錄瀏覽器、打開目錄瀏覽器、DICOM 文件過濾器

手動測量：距離、角度、輪廓、直方圖、圓形和方形 ROI 以及輪廓的 ASCII 輸出

輸出格式：打印、PDF 導(dǎo)出、帶有自定義模板的 Excel 導(dǎo)出

監(jiān)控圖像質(zhì)量

圖像傳輸

自定義公差管理

使用公差管理器為所有自動模型分析中使用的每個測量設(shè)置公差值和通過/失敗標(biāo)準(zhǔn)。該工具提供了在各種 LINAC 和成像系統(tǒng)上自定義公差所需的靈活性：

在易于使用的面板中方便地設(shè)置和切換公差，該面板位于主界面中，并顯示在每個模型分析例程中。

為分析及其相應(yīng)報告設(shè)置自己的通過/失敗標(biāo)準(zhǔn)，允許在所有成像 QA 分析中進(jìn)行完全定制。

偏好配置文件和公差是根據(jù)每臺機器設(shè)置的。它們可以針對使用中的每臺機器進(jìn)行精確定制。

將所有通過/失敗容差數(shù)據(jù)傳輸?shù)絉IT趨勢數(shù)據(jù)庫，以進(jìn)行統(tǒng)計跟蹤和趨勢™分析

 

其他測量

用于 QA 的電影劑量測定

• 放射致變色和放射致變色膠片，配備Vidar和平板掃描儀
• 平板非均勻性校正
• 放射致變色膠片均勻性校正
• 用于Vidar和平板掃描儀的2D掃描儀空間校準(zhǔn)
• 通用映像文件導(dǎo)入
• Vidar 掃描儀接口（Vidar 掃描儀控制中心）

校準(zhǔn)

• MLC標(biāo)定技術(shù)
  專利：EP 1318857、CA 2418232、JP 3817176、US 6675116、US 6934653 和 US 7013228。
• 用于Vidar和平板掃描儀的2D掃描儀空間校準(zhǔn)
• 垂直劑量校準(zhǔn)
• 校準(zhǔn)文件合并

EPID 質(zhì)量保證

• 導(dǎo)入用于 QA 的 EPID 映像
• 縮放瓦里安 EPID 的 DICOM 圖像

一般特征

• 圖像合成器
• DICOM 匿名器
• 針刺、擦除和 ROI 工具
• 每個分析程序的 PDF 報告
• 基于云的軟件許可